本网讯：近日，爱思唯尔旗下TOP期刊《Journal of Alloys and Compounds》（SCI JCR一区 IF 5.316）刊载了我校物理与电子信息工程学院刘洋博士团队在透明导电薄膜领域的最新研究成果。文章题目为“F, Mg and Ga co-doped ZnO transparent conductive thin films by dual-target magnetron sputtering: Fabrication, structure, and characteristic”，第一作者为刘洋博士，通讯作者为余华清教授。

透明导电氧化物In2O3: Sn (ITO) 薄膜作为电极材料广泛应用于太阳能电池、平板显示、触摸屏等现代科技产品中。近年来，随着In资源的日益枯竭，寻求可替代ITO的薄膜材料已迫在眉睫。刘洋博士团队在玻璃基底上应用直流、射频双靶磁控溅射技术，制备出F、Mg、Ga三元阴阳离子共掺杂ZnO透明导电薄膜，薄膜透明导电品质因子达到5.66×10-2 Ω-1，可见光透过率高达95.23%，其光电性能相比单离子掺杂ZnO薄膜有了明显提高，有望应用于各类光电器件中。

据悉，刘洋博士自2019年9月从华中科技大学引进到我校以来，以湖北工程学院为第一作者单位发表SCI收录论文6篇，其中，JCR一区3篇。

据了解，近年来，物理与电子信息工程学院以省级重点学科——光学工程建设为龙头，以团队建设为抓手，积极为老师们搭建科研平台，鼓励青年教师勇做创新人才培养的“栽树人”和源头创新的“挖井人”，把社会需求和教学科研工作有机结合起来，为促进学校高质量发展和社会经济发展增砖添瓦。